离子溅射仪镀膜过的样品为什么会有一些出现一些伪影，影响最终的SEM图像质量呢。一般来说有以下几点。
充电伪影：
镀膜厚度不足或镀膜不连续会导致电荷在SEM成像过程中积累，产生图像变形、亮点和扫描光栅偏移。避免方法： 确保足够的镀膜厚度和连续性。使用导电的样品固定介质（如导电胶带、银胶）有效地将样品接地。
颗粒感/粗糙度：
镀膜材料本身的晶粒结构在高放大倍数下可能会变得可见，从而掩盖样品的精细特征。避免方法： 对于高分辨率应用，选择晶粒尺寸更小的镀膜材料（如铂、铱）。
过热/电子束损伤：
过高的溅射功率或过长的溅射时间会导致样品过热，可能对热敏感的生物样品造成损伤。避免方法： 使用磁控溅射仪以减少热量产生。尝试短时多次溅射方法，缩短溅射时间，并尽可能监测样品温度。
污染：
溅射气体中的杂质或真空室的污染会导致镀膜污染。避免方法： 使用高纯度的氩气。定期清洁溅射仪真空室。在溅射前用氩气冲洗真空室。
镀膜不连续/阴影效应：
样品表面不规则和样品表面太过粗糙可能由于阴影效应导致镀膜不均匀。避免方法： 使用旋转倾斜样品台（广州竞赢的离子溅射仪都可配旋转倾斜样品台）。
镀膜前样品制备引起的伪影：
生物样品固定、脱水或干燥不当会导致结构塌陷或其他伪影，这些伪影可能会因镀膜而加剧或被掩盖。避免方法： 遵循标准的样品固定、脱水（如使用梯度乙醇系列）和干燥（如临界点干燥或六甲基二硅氮烷处理）流程。离子溅射镀膜是许多SEM样品制备流程的最后一步，其成功很大程度上取决于前面步骤的质量。固定、脱水或干燥过程中的任何错误或不足都可能导致伪影，即使镀膜本身是最佳的。
