离子溅射仪
离子溅射仪，一般是用来给SEM扫描电镜中非导电样品镀膜，使得样品拥有良好的导电性能，避免产生荷电效应，从而能看到更好的电镜效果图。我司提供的镀膜仪有喷金仪和镀碳仪，以及镀金镀碳一体的离子溅射仪。其中喷金仪用的原理即是离子溅射，离子溅射的喷金仪可用于大部分样品，尤其是对热敏感的生物样品，而镀碳仪用的则是热蒸镀，因为镀膜过程会产生高温，所以不适合热敏感样品镀膜。
JY-S100离子溅射仪
JY-S100磁控离子溅射仪是一款结构紧凑的桌面小型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。
JY-S100 PLUS离子溅射仪
JY-S100PLUS 是一款桌上型冷态磁控溅射镀膜系统，标配旋转倾斜样品台，特别适用于各种表面形貌的非导电样品在扫描电镜成像中的高质量镀膜，也可满足电极镀膜，半导体等材料镀膜的要求。
Ted Pella 108 Auto离子溅射镀膜仪
进口Ted Pella 108 Auto是一款结构紧凑的可放置于桌面的小型全自动镀膜设备，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。
Ted Pella 108 manua离子溅射仪
进口Ted Pella 108 manual是一款结构紧凑的半自动桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜，可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶为标配）。
Ted Pella 108C镀碳仪
进口Ted Pella 108C是用于扫描电镜能谱分析的小型桌面型镀碳仪。108C中使用的高纯碳棒可以在高倍条件下得到高质量的镀膜效果。
Ted Pella 108 Auto SE喷金仪
Ted Pella 108 Auto SE是一款带有大样品室的离子溅射喷金仪，样品室尺寸为：直径150mm x 165mm 高，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。
Ted Pella 208C高真空镀碳仪
Ted Pella 208C高真空镀碳仪为SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和微探针分析提供高质量的镀膜技术。系统结构紧凑，所占空间小。样品室直径150mm，可快速抽真空进行镀膜处理，处理周期约10分钟。
Ted Pella 208HRD高真空离子溅射仪
Ted Pella 208HRD高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。高分辨膜厚控制仪分辨率小于0.1nm，其作用是对所镀薄膜的厚度进行精确控制。
JYSC-110离子溅射仪
JYSC-110型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合SEM 制样的仪器。设备配有微量充气阀调节工作真空，在 20Pa 真空保护。同时，配有专用进气口和微量充气调节装置，以方便空气或氩气等工作气体充入。
JY-S120A离子溅射仪
广州竞赢自主研制的JY-S120A是一款全自动镀膜仪，采用全新的智能化操作方式，专为扫描电镜成像中的非导电样品高质量镀膜设计。设备配备直观的操作界面，用户可轻松设定真空度、溅射时间、电流等，并支持一键调用和运行预设方案，极大简化了操作流程。
JY-E120C 镀碳仪
JY-E120C 镀碳仪 是一款专为扫描电镜（SEM）和能谱分析（EDS）样品制备设计的专业设备。它通过高质量的碳蒸发技术，在非导电或低导电性样品表面形成均匀、致密的导电碳层，从而有效防止电子束充电效应，确保获得高分辨率、无伪影的电镜图像和准确的元素分析结果。
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提升磁控溅射靶材利用率的实用方法
1. 优化靶材-样品距离 靶材与样品之间的距离对沉积速率和材料利用效率有显著影响。适当缩短该距离可以在保持镀膜层均匀性的前提下，提高材料沉积在样品上的比例，减少在设备内壁或腔体表面的无效沉积。此外，缩短路径也减少了等离子体中的粒子散射，从而提高沉积效率。 2. 控制膜层厚度 不同应用场景对膜层厚度的要求存在差异。例如，在电子显微镜样品制备中，镀膜主要用于消除电荷积累，过厚的膜反而造成图像细节丢失。通过合理设定膜厚，仅满足实际需求，可有效延长靶材寿命。搭配厚度测控仪使用，可以对沉积过程进行实时控制，实现材料精细管理。 3....
离子溅射仪的常见问题和故障排除
没有镀膜或镀膜很薄： 检查氩气传输管线和压力。 确认靶材安装正确且未耗尽。 确保靶材的电气连接良好。 检查真空室的真空度。 镀膜不均匀： 确保样品旋转和/或倾斜功能正常。 检查靶材到样品的距离。 确认样品表面清洁无污染物。 样品过热： 降低溅射功率（电流或电压）。 缩短溅射时间。 确保磁控溅射头中的磁体功能正常（如果适用）。 镀膜后图像质量差（如仍存在充电现象）： 稍微增加镀膜厚度。 使用导电胶带或胶水确保样品与样品台之间的良好电气接触。 考虑使用导电性更高的其他镀膜材料。 靶材不溅射： 检查溅射头的高压电源。 确保真空度合适。...
离子溅射仪镀膜后样品还有伪影的避免方法
离子溅射仪镀膜过的样品为什么会有一些出现一些伪影，影响最终的SEM图像质量呢。一般来说有以下几点。 充电伪影： 镀膜厚度不足或镀膜不连续会导致电荷在SEM成像过程中积累，产生图像变形、亮点和扫描光栅偏移。避免方法： 确保足够的镀膜厚度和连续性。使用导电的样品固定介质（如导电胶带、银胶）有效地将样品接地。 颗粒感/粗糙度： 镀膜材料本身的晶粒结构在高放大倍数下可能会变得可见，从而掩盖样品的精细特征。避免方法： 对于高分辨率应用，选择晶粒尺寸更小的镀膜材料（如铂、铱）。 过热/电子束损伤：...
透射电镜样品制备技术指南：材料科学篇
作者：孙千 本文转载自公众号：老千和他的朋友们。原文地址：https://mp.weixin.qq.com/s/oLe7r8QTg6ZK8FZ09zhk_g 使用透射电镜（TEM）的第一步是样品制备，这步骤是确保获得有价值TEM结果的重中之重。制备的TEM样品一般需满足以下几个基本要求： 1. 保持样品的原始结构：尽量减少人工痕迹，即使引入也必须可识别；2. 尽可能薄：样品厚度至少需小于100纳米，确保电子束能够穿透；3. 具备物理支撑：以利于样品架的装载和取出；4. 具备机械稳定性：避免因震动导致图像缺陷；5....
