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AFM / STM / SPM 台阶标样

用于扫描探针显微镜(SPM)、原子力显微镜(AFM)和扫描隧道显微镜(STM)的台阶标样,可用于扫描器的高度校准、横向校准以及扫描性能测试。

分类: ,    品牌: Ted Pella
用于扫描探针显微镜(SPM)、原子力显微镜(AFM)和扫描隧道显微镜(STM)的台阶标样,可用于扫描器的高度校准、横向校准以及扫描性能测试。不同产品采用不同尺寸和结构的微纳米台阶,可针对 Z 轴、X/Y 轴或 X/Y/Z 三个方向进行测量和校准。产品包括不同高度范围的标准台阶结构、三角形结构、针尖锐度测试结构、横向校准结构以及 X/Y/Z 三向测试结构。部分标样可提供未装载芯片,也可预先安装在标准 12 mm AFM圆片上。

01|台阶标样系列

Z轴台阶标样 629-10 / 629-20 / 629-30
用于 Z 轴高度校准及线性度测量,台阶高度分别约为 20 nm、110 nm 和 520 nm。
三角形台阶标样 629-40
用于 X 或 Y 轴校准、扫描器非线性及角度畸变检测,也可用于 AFM 针尖表征。
针尖锐度台阶标样 629-50
用于扫描针尖三维形貌观察、针尖锐度表征以及针尖状态检测。
横向校准台阶标样 629-60
用于扫描器横向校准,以及横向非线性、滞后、蠕变和交叉耦合效应检测。
XYZ三向台阶标样 629-70
用于 X、Y、Z 三个方向的校准,并可用于扫描器横向性能测试。
SiC纳米台阶标样 629-85 / 629-90
基于 6H-SiC (0001) 晶体,用于 AFM 扫描器垂直方向的纳米级简易校准。

02|Z轴台阶标样

产品编号:
629-10 / 629-10AFM / 629-20 / 629-20AFM / 629-30 / 629-30AFM

629-10

该系列台阶标样用于 SPM Z 轴高度校准和线性度测量。产品采用 Si 晶圆和 SiO₂ 光栅层结构,具有规则的一维台阶图案,提供不同的标称台阶高度,以适应不同的 Z 轴测量范围。

材料 Si 晶圆 + SiO₂ 光栅层
图案 一维台阶结构
周期 3 ± 0.01 µm
芯片尺寸 5 × 5 × 0.5 mm
有效区域 中心 3 × 3 mm 正方形区域
台阶高度说明 台阶高度为标称值,实际高度随产品提供,可能存在约 ±5% 的偏差。
629-10-drwgB
629-10 / TGZ-20
产品编号 629-10:未装载
629-10AFM:安装于 12 mmAFM圆片上
标称台阶高度 20 nm
629-20 / TGZ-100
产品编号 629-20:未装载
629-20AFM:安装于 12 mmAFM圆片上
标称台阶高度 110 nm
629-30 / TGZ-500
产品编号 629-30:未装载
629-30AFM:安装于 12 mmAFM圆片上
标称台阶高度 520 nm

03|三角形台阶标样

产品编号:
629-40 / 629-40AFM

629-40629-40-B

该三角形台阶标样用于 SPM X 或 Y 轴校准、扫描器横向及垂直方向非线性检测、角度畸变检测以及 AFM 针尖表征。标样表面具有规则的一维三角形台阶结构。

材料 Si 晶圆表面结构
结构 一维三角形台阶阵列
边缘角度 约 70°
边缘半径 ≤10 nm
图案高度 约 1.8 µm(参考值)
周期 3 ± 0.01 µm
芯片尺寸 5 × 5 × 0.5 mm
有效区域 中心 3 × 3 mm
安装方式 未装载或安装于 12 mmAFM圆片上

04|针尖锐度台阶标样

产品编号:
629-50 / 629-50AFM

629-50

该标样用于扫描针尖三维形貌可视化、针尖锐度参数测定,以及针尖退化和污染状态的检测。
表面采用规则排列的尖锐结构,可用于观察 AFM 针尖与标准微纳米结构之间的成像关系。

材料 Si 晶圆表面结构
结构 尖锐针尖阵列
针尖角度 约 50°
针尖半径 ≤10 nm
针尖高度 0.3–0.7 µm
周期 3 ± 0.01 µm
对角线周期 2.12 µm
芯片尺寸 5 × 5 × 0.5 mm
有效区域 中心 2 × 2 mm
安装方式 未装载或安装于 12 mmAFM圆片上
629-50-B

05|横向校准台阶标样

产品编号:
629-60 / 629-60AFM

629-60

该横向校准台阶标样用于 SPM 扫描器横向校准,以及横向非线性、滞后、蠕变和交叉耦合效应检测,同时可用于针尖纵横比测定。
标样具有规则排列的方形柱结构和尖锐底切边缘。

材料 Si 晶圆表面结构
结构 棋盘状方形柱阵列,带尖锐底切边缘
结构高度 0.3–0.6 µm(参考值)
顶部方形尺寸 1.2 × 1.2 µm(参考值)
边缘半径 ≤10 nm
周期 3 ± 0.05 µm
芯片尺寸 5 × 5 × 0.5 mm
有效区域 中心 3 × 3 mm
安装方式 未装载或安装于 12 mmAFM圆片上
629-60-B629-60-C

06|XYZ三向台阶标样

产品编号:
629-70 / 629-70AFM

629-70

该台阶标样用于 X、Y、Z 三个方向的测试和校准,也可用于 SPM 扫描器横向校准、非线性、滞后、蠕变及交叉耦合效应检测。
标样采用 Si 晶圆和 SiO₂ 光栅层结构,表面具有规则排列的三维小方形结构。

材料 Si 晶圆 + SiO₂ 光栅层
结构 三维小方形阵列
高度 20 ± 1.5 nm
方形尺寸 1.5 ± 0.15 µm
周期 3 ± 0.05 µm
芯片尺寸 5 × 5 × 0.5 mm
有效区域 中心 3 × 3 mm
高度精度说明 高度数据基于批次抽样测量,实际台阶高度可能在标称值约 ±10% 的范围内变化。
安装方式 未装载或安装于 12 mmAFM圆片上
629-70-B

07|SiC纳米台阶标样

629-85 / SiC 0.75 nm

产品编号:629-85

629-85

629-90 / SiC 1.5 nm

产品编号:629-90

629-90

SiC纳米台阶标样基于 6H-SiC (0001) 晶体,表面具有近乎均匀的半单层台阶,可提供约 0.75 nm 或 1.5 nm 的单台阶高度。
SiC 材料具有良好的化学和机械稳定性。

台阶高度对应于 6H-SiC 晶体(0001)方向晶格常数的一半,适用于 AFM 扫描器垂直方向的纳米级高度测量和简易校准。

SiC / 0.75
结构 带台阶的 6H-SiC
单台阶高度 0.75 nm
平均台阶间距 0.15–0.4 µm
表面倾角 约 0.2°
台阶间区域平均粗糙度 0.09 nm
芯片尺寸 5 × 5 × 0.3 mm
SiC / 1.5
结构 带台阶的 6H-SiC
单台阶高度 1.5 nm
平均台阶间距 0.2–0.5 µm
表面倾角 约 0.3°
台阶间区域平均粗糙度 0.09 nm
芯片尺寸 5 × 5 × 0.3 mm

629-85-3D629-90-3D

629-85-m

08|SiC纳米台阶标样校准方法

基本操作

1.放置标样
将 SiC 纳米台阶标样放置在 AFM 探针下方的平坦、水平工作区域上。

2.扫描台阶
使 AFM 探针接近样品表面,并在高度测量模式下进行形貌扫描。

对于不同台阶高度,技术文档给出了相应的推荐扫描尺寸:

SiC / 0.75 推荐扫描尺寸约 5 µm
SiC / 1.5 推荐扫描尺寸约 10 µm

3.进行 Z 轴校准
根据 AFM 扫描得到的实际台阶高度,对扫描器的 Z 轴运动进行校准。

629-85-3D

09|台阶标样选择

不同台阶标样针对不同的扫描方向和测试目的设计,可根据 AFM / STM / SPM 的实际校准需求选择。

Z轴高度校准

推荐产品 629-10 / 629-20 / 629-30;纳米级高度校准可选择 629-85 / 629-90
主要参数 20 nm、110 nm、520 nm;SiC 产品为 0.75 nm、1.5 nm

X / Y 横向校准

推荐产品 629-40 / 629-60
主要用途 横向尺寸校准、扫描器非线性及相关运动性能测试。

X / Y / Z 三向校准

推荐产品 629-70
主要参数 20 ± 1.5 nm 高度,3 ± 0.05 µm 周期。

针尖锐度及形貌表征

推荐产品 629-40 / 629-50 / 629-60
主要用途 针尖形貌、锐度、纵横比以及成像状态表征。
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