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Planotec-B 枪击残留物自动 SEM/EDS 颗粒分析测试标样

Planotec-B 是专为自动扫描电子显微镜 / 能谱(SEM/EDS)枪击残留物(GSR)颗粒分析系统设计的综合测试标样。
标样将精密几何图案、尺寸测量结构以及含铅(Pb)、锑(Sb)和钡(Ba)的合成 GSR 颗粒集成于8 × 8 mm 玻璃碳基片上,可用于图像、载物台运动、坐标校准、扫描拼接以及 EDS 和颗粒分类等多项测试。

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分类: ,    品牌: Ted Pella
Planotec-B 枪击残留物自动 SEM/EDS 颗粒分析测试标样

产品编号:60806-7

Planotec-B 是专为自动扫描电子显微镜 / 能谱(SEM/EDS)枪击残留物(GSR)颗粒分析系统设计的综合测试标样。
标样将精密几何图案、尺寸测量结构以及含铅(Pb)、锑(Sb)和钡(Ba)的合成 GSR 颗粒集成于8 × 8 mm 玻璃碳基片上,可用于图像、载物台运动、坐标校准、扫描拼接以及 EDS 和颗粒分类等多项测试。

产品特点

自动 SEM/EDS 系统测试 用于自动颗粒分析系统的图像、载物台、EDS 和颗粒分类功能测试。
多种精密测试结构 集成 500 µm 十字线、0.8 µm 点阵、三线宽度网格以及 7000 µm 长距离测量线。
合成 GSR 颗粒 含 Pb、Sb 和 Ba 的合成颗粒,覆盖约 0.4–2.0 µm 尺寸范围,用于颗粒识别及 EDS 分析测试。
适用于系统优化 可用于检查图像拼接、载物台坐标、旋转误差、回程误差及机械反向间隙等系统参数。

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测试与校准功能

图像与载物台校准

对标样进行连续扫描,可用于检查相邻扫描区域之间是否存在未覆盖的间隙或过度重叠,从而帮助判断自动颗粒搜索过程中是否可能遗漏颗粒或重复识别同一颗粒。

视场旋转校准

用于检查 SEM 图像坐标系与载物台 X/Y 坐标系之间的方向关系,并辅助校准图像与载物台坐标。

扫描回程误差测试

用于检查不同扫描速度条件下的回程修正误差,避免因扫描过程中的位置误差造成同一颗粒被重复识别。

机械反向间隙测试

可用于评价载物台移动过程中存储坐标与实际位置之间的偏差,以及机械反向间隙对自动颗粒分析的影响。

EDS 与颗粒分类验证

用于检查电子束定位、EDS 谱图质量、元素识别、定量分析以及自动颗粒分类结果。

标样结构

500 µm 十字线结构

十字线长度为 500 µm,以 50 µm 为间隔设置刻度标记和数字标识,可用于 X/Y 方向长度测量、扫描方向检查、图像与载物台坐标对齐以及滞后(Hysteresis)修正测试。

0.8 µm 点阵

点阵约包含 6000 个直径 0.8 µm 的点,点间距为 20 µm,覆盖区域约为 2.4 × 1.0 mm
可用于低倍率、高像素分辨率条件下的图像分辨率、图像畸变及滞后测试。

三线宽度网格

不同宽度的三重线结构用于不同显微镜倍率下的图像正交性测试,并可辅助进行图像校准及相关系统参数调整。

7000 µm 长距离测量线

用于较长距离的载物台校准以及机械载物台缺陷检测。

合成 GSR 颗粒阵列

合成 GSR 颗粒按照行排列,每行包含 20 个颗粒,颗粒之间以150 µm 间距排列形成矩阵。每行起始位置标有对应的颗粒尺寸。

颗粒直径包括:

2.0 / 1.8 / 1.6 / 1.5 / 1.4 / 1.3 / 1.2 / 1.1 / 1.0 /
0.9 / 0.8 / 0.7 / 0.6 / 0.5 / 0.4 µm

合成颗粒由 PbO、Sb₂O₃ 和 BaF₂ 构成,用于模拟 GSR 颗粒的元素组成及颗粒分析测试。

技术规格

产品名称 Planotec-B 枪击残留物自动 SEM/EDS 颗粒分析测试标样
产品编号 60806-7
基片 玻璃碳
基片尺寸 8 × 8 mm
颗粒类型 合成 GSR 颗粒
主要元素 Pb / Sb / Ba
颗粒化合物 PbO / Sb₂O₃ / BaF₂
颗粒直径 0.4–2.0 µm
颗粒排列 每行 20 个,间距 150 µm
0.8 µm 点阵 约 6000 个点,点间距 20 µm
十字线 长度 500 µm,刻度间隔 50 µm
长距离测量线 7000 µm
主要用途 自动 SEM/EDS 颗粒分析系统测试、优化、校准与性能验证

 

使用与保存

Planotec-B 用于 GSR 颗粒分析系统测试时,应避免测试表面受到污染。
原厂建议将 Planotec-B GSR 测试标样存放于适当的真空干燥保存容器中,以减少环境污染对标样表面的影响。

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