氮化硅支持膜

描述

氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生长了一层氮化硅膜，主要用于纳米技术和分子生物研究，它的优点是化学和机械性能稳定耐腐蚀，可以承受高达1000°C的温度变化。适合直接在氮化硅支持膜上对颗粒或细胞进行各种纳米技术实验。应用领域：FIB样品支撑，细胞生物学（附着的细胞可以直接在支持膜上的环境中生长，然后进行分析）、分析胶体，气溶胶，纳米颗粒、自组装单层、高分子研究、薄膜研究（直接沉积在氮化硅支持膜上）、材料科学、半导体器件的纳米结构的性质、半导体：薄膜表征、催化剂研发。

膜厚度：弹性，超低应力8、15、35或50nm，可产生最小吸收，从而实现清晰的成像；坚固，低应力的100nm和200nm，可在多个平台上更好地处理和使用；窗口尺寸： 0.25 x 0.25mm，0.5 x 0.5mm，0.75 x 0.75mm，1.0 x 1.0mm，0.5 x 1.5mm以及具有3 x 3阵列的9个0.1 x 0.1mm窗口或2个0.1x 1.5毫米窗口的窗口版本。较大的窗口可提供更大的可视区域，例如，可以实现层析成像应用所需的更大的倾斜角度。具有多个窗口的版本允许将多个样本安装在单独的窗口上。表面粗糙度： RMS（Rq）为0.65 +/- 0.06nm，平均粗糙度（Ra）为0.45 +/- 0.02nm。货号21510-10到21579-10。

亲水性氮化硅支持膜：亲水性表面使水溶液在支持膜上的润湿性和分散性得到改善，避免了使用亲水性较差支持膜时常出现的颗粒团聚现象，尤其适用于水溶液与生命科学研究。货号21553-10到21551-10。疏水性氮化硅支持膜：疏水表面改善了溶解或悬浮在有机溶剂中的材料的制样效果。有机溶剂中的纳米颗粒（例如碳纳米管）易于分散在氮化硅膜表面。货号21593-10到21591-10。

AFM镀氮化硅圆片：3mm圆片两面均有一层50nm厚的超低张力氮化硅膜。用于AFM中需要用到氮化硅背景的场合。产品规格：膜厚： 两面均含50nm超低张力氮化硅膜；圆片厚度： 200µm硅基底；圆片直径： 3mm；表面粗糙度：RMS（Rq）为0.65 +/- 0.06nm，平均粗糙度（Ra）为0.45 +/- 0.02nm。

CLEM氮化硅支持膜:拥有两个平行断面的氮化硅支持膜，该框架有助于样品对齐，方便做光电关联显微镜实验。CLEM窗口的厚度为200µm，直径为3mm，两侧有两个1mm长的平行平边缘。氮化硅膜有四种不同的厚度：15 nm，50 nm，100 nm和200 nm，孔径范围从0.1 x 0.1mm到1 x 1mm。货号21560CL-10到21528CL-10和21518-10.

多孔氮化硅支持膜：用MEMS制造工艺制造的多孔氮化硅支持膜，该多孔氮化硅支持膜是在3mm的硅片上有一个0.5mm x 0.5mm的窗口，窗口上有一张的低应力厚度为200nm的无定形氮化硅阵列孔支持膜。共有十二种孔径可供选择，范围从100nm至5μm，阵列孔数90 x 90到1125 x 1125个。货号21536-10到21585-10。

氮化硅X射线支持膜：尺寸分为10mm和5mm氮化硅片以及0.5mm，1mm或2mm单方形窗口。氮化硅膜厚度为50、100或200nm。货号21901-10到21929-10。