描述
二氧化硅支持膜是在200um厚的硅片上生长40、18或8nm厚二氧化硅膜，3mm氮化硅片上0.5 x 0.5mm窗口上的二氧化硅膜，膜厚分为40nm，18nm和8nm，孔径大小/数量：40 nm时50 x 50µm / 24孔，18nm时60 x 60µm / 24孔，8nm时70 x 70µm / 24孔。表面粗糙度：RMS（Rq）为0.65nm，平均粗糙度（Ra）为0.41 nm。应用领域：纳米材料的沉积和生长。薄膜分析和表征。催化剂的研发。支持FIB薄片。半导体材料的表征。研究附着的生物分子。货号21530-10到21532-10.
| 产品货号 | 载网目数 | 材质 | 规格 |
| 21532-10 | 二氧化硅支持膜，Ø3mm框架，0.5x0.5mm窗口,24个70 x 70µm孔，膜厚8nm | 硅 | 10/包 |
| 21531-10 | 二氧化硅支持膜，Ø3mm框架，0.5x0.5mm窗口,24个60 x 50µm孔，膜厚18nm | 硅 | 10/包 |
| 21530-10 | 二氧化硅支持膜，Ø3mm框架,0.5x0.5mm窗口,24个50 x 50µm孔，膜厚40nm | 硅 | 10/包 |
