MRS-3 SEM多功能标样

应用领域

• 电子显微镜：SEM（二次电子与背散射电子模式）、SEM/FIB 双束系统；另有专用版本可用于 TEM/STEM。
• 扫描探针显微镜与轮廓仪：STM、AFM 等，图案高度约 100nm，可用于扫描探针显微技术以及轮廓测量中的高度测量参考。
• 光学显微镜：透射、反射、明场/暗场、微分干涉（DIC）及共聚焦显微镜。
• 表面化学成分分布（mapping）：EDS、WDS、XRF、XPS、俄歇电子能谱等。图案采用石英基底上的 30nm 氧化铬 + 70nm 铬薄膜制作，在多种谱仪条件下均可成像定位。
• 颗粒分析系统校准：标样上设有一系列圆形、方形和矩形图案，用于颗粒分析系统的校准验证。

图案设计与成像原理

MRS-3 采用高精度电子束光刻设备制作。图案为石英基底上的抗反射铬膜（30nm 氧化铬 + 70nm 铬），在二次电子和背散射电子成像模式下均具有很高的图像衬度。

标样表面覆有专有导电覆层，可在任意加速电压下进行 SEM 成像，包括 500eV 的极低加速电压条件，依然能保持较高的成像衬度。

几何结构与适用倍率

MRS-3 的主体图案为多组嵌套方格，间距（pitch）分别为 2µm、50µm 和 500µm。最大图案整体尺寸为 8mm 见方，线条宽度与间隔为 250µm，可用于 10–100× 的低倍率校准；50µm 间距图案适用于 100–1000×；2µm 间距图案可支持至 50,000× 的校准。

尺寸与保护框

MRS-3 整体尺寸约为 9 × 9 × 2.3mm。由于标样本体为石英材质，边缘容易崩裂，强烈建议选购配套的保护框。

标样使用超高真空兼容的导电银胶固定在保护框内。此外还提供 (S)TEM 专用版本：直径 3mm、厚 500µm，仅显示中心区域图案，可用二次电子和背散射电子成像观察（不适用于透射电子成像）。

准确度与溯源

经英国国家物理实验室（NPL）实测，MRS-3 的准确度为：500µm 间距图案 ±0.25µm；50µm 与 2µm 间距图案 ±0.1µm。

X–Y 平面测量可溯源至 NIST 与 NPL 标准；Z 向（高度）测量仅溯源至 NIST 标准。

随附证书

认证流程遵循 ISO 规范执行。每片 MRS-3 标样上都刻有唯一序列号。证书包含序列号、认证日期、操作人员、所用仪器、图案实际测量值以及准确度数据。

MRS-3 具有更强的抗辐照能力：可承受约 10 倍的电子束电流密度，即使在 500eV 低加速电压下仍能提供较高的 SEM 成像衬度。标样上还增加了辅助图案，用于颗粒分析系统的校准，以及视频与表面化学成像系统中空间分辨率的测量。

产品型号

MRS 系列选型对照