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冷场电子发射源(CFE)技术解读

作者:孙千 本文转载自公众号:老千和他的朋友们。原文地址:https://mp.weixin.qq.com/s/mdLP3Odcjr_HvvG3xSiCZQ 二战后,场发射的基础研究主要由三支核心团队推进,分别是宾夕法尼亚州立大学的Erwin Müller团队、芝加哥大学的Robert Gomer团队,以及林肯菲尔德研究所的Walter Dyke团队, L. W. Swanson曾参与后两支团队的研究工作。...

肖特基场发射电子枪改造,助力电子束光刻升级

作者:孙千 本文转载自公众号:老千和他的朋友们。原文地址:https://mp.weixin.qq.com/s/BeCn9-W7A0K5-aDxlWYclQ 肖特基场发射电子枪透镜是电子束光刻(EBL)设备光学柱的核心组件,负责电子的产生、聚焦与加速,其稳定性和性能上限,长期以来限制着EBL技术向10纳米以下特征尺寸、超高吞吐量加工方向发展。 代尔夫特理工大学L.A. Musters等人针对Raith B.V....

低真空电子背散射衍射(LV‑EBSD)技术讨论

作者:孙千 本文转载自公众号:老千和他的朋友们。原文地址:https://mp.weixin.qq.com/s/BngFxPYAWQhfL7Skazl8wg 电子背散射衍射(EBSD)早已成为多晶材料晶体学取向、晶粒形貌与物相分布表征的核心手段。但长期以来,传统高真空EBSD始终受限于一项根本约束:针对陶瓷、高分子、水合生物矿物等非导电样品,必须预先喷涂导电涂层以抑制荷电效应,这一预处理会改变样品表面状态,往往让样品无法继续用于后续分析。...

原子层沉积(ALD)技术解读

作者:孙千 本文转载自公众号:老千和他的朋友们。原文地址:https://mp.weixin.qq.com/s/bvRckMSpsA0Okjll7HKHQw 原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是一种靠表面反应控制的化学气相沉积技术,如今已成为原子尺度制造领域的核心技术。它最特别的地方在于,能像搭积木一样,以原子为单位精准控制薄膜厚度,还能在复杂的三维结构表面均匀裹上一层薄膜,不管基底是几平方厘米的实验室样品,还是数平方米的工业板材,薄膜厚度偏差都能控制在很小范围。...

机器学习赋能扫描透射电镜:重新理解原子

作者:孙千 本文转载自公众号:老千和他的朋友们。原文地址:https://mp.weixin.qq.com/s/sVbZ2ZNgoeafZ2IlOT_o5A 扫描透射电镜(STEM)是材料科学、凝聚态物理与催化化学领域原子尺度表征的金标准,依托像差校正技术的革命性突破,它实现了个位数皮米级的原子定位精度,能直接看清固体材料中单个原子与原子列的排布。...
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