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108 镀膜仪(离子溅射仪)

108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

主要特性

l  通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。

l  操作容易快捷,控制的参数包括放气以及氩气换气控制。

l  可用MTM-10高分辨膜厚控制仪(选件)精确测定所镀膜的厚度。

l  数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。

可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶为标配),靶材更换快速方便。

 

 

技术参数

 

溅射系统
样品室大小 直径120mm x 120mm 高
靶材 标配黄金Au靶,Pt等其它靶材可选

大小:直径57mm x 0.1mm厚

样品台 可以装载12SEM样品座,高度可调范围为50mm
溅射控制 微处理器控制,安全互锁
溅射电流 5~45mA可调
溅射头 低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩
计量表 真空: Atm – 0.001mbar,电流:0~50mA
厚度监控
(
选件)
使用MTM-10高分辨厚度监控仪(选件)精确测定所镀膜的厚度
控制方法 具有气体换气和泄气功能,带有“暂停”控制的数字定时器(5-300s)
真空系统
真空泵 2级直连式高速真空泵
抽气速率 3.0 m3/小时 ,真空度到 0.1mb所需时间30秒.
极限真空 5 x 10-3mba
桌上系统 真空泵可置于抗震台上,全金属集成耦合系统

关于108 镀膜仪(离子溅射仪)