JYSC-1000镀膜仪（离子溅射仪）

描述

此款JYSC-1000型小型磁控离子溅射仪主要用于SEM制样样品镀导电膜（如金膜）或材料镀膜，仪器性能稳定，操作简单方便。采用磁控冷态溅射，基本不升温，保护样品。

主要特点：

• 真空泵连接管路为金属波纹管，美观耐用；
• 微调阀调节灵敏准确，带有刻度标识；
• 真空泵抽速快，噪音低，适合实验室使用；
• 控制电路为控制板，工作稳定可靠；
• 磁控冷态溅射，基本不升温，保护样品；

技术参数：

1. 真空室：Φ150mm,高度110mm;
2. 试样台尺寸：Φ60mm,
3. 金靶尺寸：Φ50mm;
4. 真空系统：抽速8m³/h；
5. 真空检测：定制皮氏计，配合真空指针表，灵敏可靠；
6. 排气方式：自动；
7. 溅射时间：0－1000秒可连续设置。
8. 真空室工作气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气节；
9. 可使用多种金属靶材：Au，Au/Pd，Pt，Pt/Pd，Cu，Ag等，靶材更换快速方便
10. 主机尺寸：约450×330×235mm