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JYSC-1000镀膜仪(离子溅射仪)

此款JYSC-1000型小型磁控离子溅射仪主要用于SEM制样样品镀导电膜(如金膜)或材料镀膜,仪器性能稳定,操作简单方便。采用磁控冷态溅射,基本不升温,保护样品。

描述

此款JYSC-1000型小型磁控离子溅射仪主要用于SEM制样样品镀导电膜(如金膜)或材料镀膜,仪器性能稳定,操作简单方便。采用磁控冷态溅射,基本不升温,保护样品。

主要特点:

  • 真空泵连接管路为金属波纹管,美观耐用;
  • 微调阀调节灵敏准确,带有刻度标识;
  • 真空泵抽速快,噪音低,适合实验室使用;
  • 控制电路为控制板,工作稳定可靠;
  • 磁控冷态溅射,基本不升温,保护样品;

技术参数:

  1. 真空室:Φ150mm,高度110mm;
  2. 试样台尺寸:Φ60mm,
  3. 金靶尺寸:Φ50mm;
  4. 真空系统:抽速8m3/h;
  5. 真空检测:定制皮氏计,配合真空指针表,灵敏可靠;
  6. 排气方式:自动;
  7. 溅射时间:0-1000秒可连续设置。
  8. 真空室工作气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气节;
  9. 可使用多种金属靶材:Au,Au/Pd,Pt,Pt/Pd,Cu,Ag等,靶材更换快速方便
  10. 主机尺寸:约450×330×235mm

关于JYSC-1000镀膜仪(离子溅射仪)