本系列提供 145 nm 和 292 nm 两种周期规格。其中，145 nm 标样采用玻璃基底上的铝线一维阵列，292 nm 标样采用硅基底上的钛线一维阵列。
145 nm 铝线一维阵列
292 nm 钛线一维阵列
145 nm 铝线一维阵列 AFM 高分辨率校准标样
用于 AFM 高分辨率、纳米级尺寸测量校准
主要参数
| 周期 | 标称 145 nm，一维阵列，精度 ±1 nm；实际周期值以校准证书为准 |
|---|---|
| 表面结构 | 玻璃基底上的铝线 |
| 标样尺寸 | 4 × 6 mm |
| 线高 | 约 100 nm，未校准 |
| 线宽 | 约 75 nm，未校准 |
| 可用区域 | 校准图案覆盖整个标样，可进行数万次测量，无需重复使用此前已被污染或改变的区域 |
AFM 使用
| 适用模式 | 接触模式、间歇接触模式（TappingMode™）及其他 AFM 模式 |
|---|---|
| 图像尺寸 | 约 250 nm – 10 µm |
| 安装方式 | 可选未安装标样，或安装在 12 mm AFM 圆片上 |
认证与产品编号
产品提供非可追溯制造商证书，周期值基于批次测量的平均值。实际周期值以随产品提供的校准证书为准。
| 642-1AFM | 145 nm 铝线一维阵列 AFM 高分辨率校准标样，安装在 12 mm AFM 圆片 |
|---|---|
| 642-1 | 145 nm 铝线一维阵列 AFM 高分辨率校准标样，未安装 |
292 nm 钛线一维阵列高倍率、高分辨率校准标样
用于 AFM、SEM、Auger 和 FIB 的高分辨率尺寸校准
精密全息光栅标样，具有清晰的结构边缘和良好的成像对比度，可用于高倍率、高分辨率条件下的纳米级尺寸测量与图像校准。
主要参数
| 周期 | 标称 292 nm，一维阵列，精度 ±1%；实际周期值以校准证书为准 |
|---|---|
| 表面结构 | 硅基底上的钛线 |
| 标样尺寸 | 4 × 3 mm |
| 线高 | 约 30 nm，未校准 |
| 线宽 | 约 130 nm，未校准 |
| 图案区域 | 校准图案覆盖整个芯片，可提供较大的有效测量区域 |
AFM、SEM、Auger 与 FIB 使用
| AFM | 可用于高分辨率 AFM 尺寸测量与校准 |
|---|---|
| SEM / Auger / FIB | 适用于较宽的加速电压范围，可用于约 5kX–200kX 的图像倍率校准 |
| 安装方式 | 可选未安装、安装在 12 mm AFM 圆片上，或安装在不同 SEM 样品台上 |
产品编号
| 643-1 | 292 nm 钛线一维阵列高分辨率参考标样，未安装 |
|---|---|
| 643-1AFM | 292 nm 钛线一维阵列高分辨率参考标样，安装在 12 mm AFM 圆片 |
| 643-1A ～ 643-1R | 292 nm 钛线一维阵列高分辨率参考标样，安装在不同 SEM 样品台 |
| 643-11 系列 | 292 nm 钛线一维阵列可追溯认证版本，包括未安装、12 mm AFM 圆片安装以及不同 SEM 样品台安装形式 |
产品系列说明
本系列标样采用精密微纳图案作为尺寸参考，可根据不同显微镜及应用需求选择相应周期和安装形式。
642-1 系列采用 145 nm 铝线一维阵列，主要面向 AFM 高分辨率尺寸测量；643-1 / 643-11 系列采用 292 nm 钛线一维阵列，可用于 AFM、SEM、Auger 和 FIB 的高分辨率及高倍率校准。
