电子光学系统要获得高亮度、纳米级聚焦电子束，尖端阴极是核心部件。早年商用系统里，室温场发射阴极用得最多。过去二三十年间，多款高温尖端阴极慢慢具备了商用价值，成了性能更优的电子源选择。

电子光学系统要获得高亮度、纳米级聚焦电子束，尖端阴极是核心部件。早年商用系统里，室温场发射阴极用得最多。过去二三十年间，多款高温尖端阴极慢慢具备了商用价值，成了性能更优的电子源选择。

 Xe PFIB 铣削技术，旨在通过更高的铣削速度简化制备流程，同时建立原位透明度检测方法，拓展软X射线透明样品的适用材料范围。

在纳米科技领域，SEM 是低维纳米材料研发核心表征工具，但传统 LV-SEM 面对核壳、异质结等精细结构有一定局限，超低电压SEM（VLV-SEM）恰好填补空白。

为什么非弹性散射值得我们关注？因为这类散射过程产生了多种信号，每种信号都能提供比弹性电子更丰富的样品化学信息。除了能量损失电子本身，最重要的信号包括特征X射线、二次电子，以及偶尔出现的可见光（阴极荧光，CL）。

弹性散射电子是TEM图像衬度的主要来源，同时也产生衍射图样(DPs)的大部分强度，因此理解控制这一过程的因素至关重要。我们将首先考察来自单个孤立原子的弹性散射，然后探讨样品中多个原子协同产生的弹性散射现象。

电子是低质量、带负电荷的粒子，经过其他电子或原子核附近时易被库仑相互作用偏转。这种静电作用引起的散射是TEM的基础。

电子兼具粒子性和波动性。波动性产生衍射效应，对TEM同样重要。没有电子散射，就无法生成TEM图像、衍射花样或光谱数据。因此，理解电子散射的粒子和波动方法是解释TEM信息的关键。

我们将以 TEM 的历史发展作为开篇，因为这段发展历程与”为什么选择TEM进行材料表征”的诸多理由密切相关。随着仪器技术的持续进步，采用TEM的科学依据也在不断增强。

FIB诱导沉积（FIBID）是以气体前驱体为原料的自下而上原型制造方法。其原理是利用离子束辐照选择性分解吸附在基底表面的前驱体分子，使其生成挥发性与非挥发性产物；前者由真空系统抽走，后者在目标区域沉积，从而直接“书写”纳米结构。

图像的分辨率和清晰度对于在各种成像方法中提供准确的尺寸测量至关重要。为简化讨论，本研究主要针对扫描电子显微镜（SEM），但该算法可应用于众多其他成像技术。